Introducción a la tubería de aire de enfriamiento SISIC:

La capacidad de soporte de alta temperatura de esta tubería de aire de enfriamiento de carburo de silicio unido por reacción es grande, incluso en un uso a largo plazo no se doblará por deformación, su vida útil es mucho más larga que la de la varilla de cerámica de alúmina o la tubería de acero inoxidable. La tubería de aire frío de carburo de silicio sinterizado por reactividad es adecuada para la zona de enfriamiento del horno de rodillos, especialmente en la zona de cocción de alta temperatura de porcelana diaria, porcelana sanitaria, porcelana de construcción, materiales magnéticos y otros hornos de rodillos. Debido a su buen desempeño, esta tubería de aire de enfriamiento juega un papel importante en el horno industrial, especialmente en la necesidad de soportar aplicaciones de alta temperatura y enfriamiento rápido como horno de túnel, horno lanzadera, horno de doble rodillo, etc.

Nuestro servicio:

Nos comprometemos a proporcionar a los clientes productos confiables y servicios perfectos, y somos su socio de confianza. Nuestra tubería de enfriamiento SiSiC se fabrica con tecnología avanzada y materiales de alta calidad. Durante la etapa de preventa, nuestro equipo profesional hará un seguimiento durante todo el proceso, brindará a los clientes información detallada del producto, consultas técnicas y soluciones, y escuchará atentamente las necesidades de los clientes. Al mismo tiempo, también nos enfocamos en el servicio posventa y brindamos a los clientes soporte técnico continuo y servicios de mantenimiento.

Sobre nosotros :

Basándose en la superioridad del material de carburo de silicio, después de más de 30 años de I+D e innovación continuas, la empresa no solo ocupa una cuota de mercado estable en hornos industriales y otros campos, sino que también abre nuevas aplicaciones en muchos campos, incluidas membranas cerámicas en la industria de protección ambiental, marcos de cocción de cerámica electrónica, industria militar, campo fotovoltaico, trampas de partículas de carburo de silicio, nuevas aplicaciones de materiales en la industria de semiconductores, etc.

La empresa lleva muchos años comprometida con la investigación y el desarrollo de productos y la innovación. Está dirigida por talentos de alto nivel de universidades e institutos reconocidos. También cuenta con una gran cantidad de graduados universitarios destacados para formar un equipo de investigación y desarrollo de primera clase, sentando una base sólida para el desarrollo a largo plazo.